万字浅析国产EUV光刻机的DPP LPP等离子光源

作者：落英行者

发布时间：2025-01-13

万字浅析国产EUV光刻机的DPP LPP等离子光源 #硬核深度计划三年前，美国开始对中国高端芯片产业进行绞杀的时候，半导体行业最乐观的人，都觉得国产DUV光刻机的诞生起码需要10年时间。众所周知，EUV光刻技术是一个极其庞大、却又无比精妙的系统工程，而EUV光刻机又以光源为核心中的核心。产生13.5 nm EUV的首选方法是高电荷离子的等离子体发射，实现电离的方法也出现了2个主要分支，即LPP激光等离子体和DPP放电等离子体。加速器光源业内也早就积极摸索，最为创新、最为颠覆性的加速器光源是SSMB-EUV，即稳态微聚束极紫外光源路线，由清华大学主导。